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西门子S7-200模块CPU226CNDC/DC/DC
制动器是一种非常成熟的产品,对制动器采用何种控制方式以确保其准确无误的动作,使其在事故状态下确实起到保护作用,对电气控制提出了较高的要求,即控制的性、准确性非常重要。
和利时公司LK系列PLC自2006年面世以来,已经经受住了现场恶劣环境的考验、满足了复杂的用户需求。经过多年在水利水电行业的产品销售、系统集成应用的经验,和利时公司总结出了LK在水利水电行业应用的解决方案。
LK在水利水电行业的应用主要包括:水电厂计算机监控系统、泵站计算机监控系统、闸门计算机监控系统、灌区调度计算机监控系统等的应用。
LK在水利水电行业的应用特点如下:
? 开放式的系统设计
LK产品充分考虑了系统改造和扩建的系统集成问题,LK提供了多种开放式的通讯协议和接口,包括Modbus RTU主从站串行接口、串行自由协议接口、Modbus Tcp以太网接口、OPC通讯接口软件。
? 合理的通讯接口配置
PLC的CPU集成Ethernet接口、RS232、RS485串行接口。而对于PLC控制系统通常配置的CANopen,DeviceNet,AS-i等端口由于在水利水电中的没有应用,减少这些通讯接口的配置,大大降低了PLC无效的系统消耗和内存消耗,提高CPU的运行效率。
? 站间通讯
泵站、水电厂计算机监控系统中各机组现地控制单元PLC间以及与公用现地控制单元PLC间有大量数据通讯,以实现全泵站机组的协调控制。LK提供了站间通讯功能,通过站间引用通讯数据功能块方便实现各站之间数据的交换。
? 高性价比冗余控制
LK单机架冗余方案,即满足了水利水电项目高性的要求,又有具有竞争力的价格,为水利水电监控系统提供了具有性价比的选择。LK单机架冗余方案每套PLC选用一个有双CPU插槽的冗余机架,两个支持冗余系统的LK210 CPU。两个CPU互为热备,当一个CPU出现故障,或与上位组态软件通讯故障时,系统切换到热备的CPU上,CPU切换的时间为一个扫描周期,保证控制系统的不中断。除了CPU冗余,LK单机架冗余系统还支持电源冗余、网络冗余以及总线冗余。
关于和利时
和利时集团始创于1993年,是集研发、生产、销售、技术服务为一体的自动化公司。现有员工3000多人,年经营额过30亿元人民币。被的美国ARC咨询集团评为过程自动化50强,是中国本土入选的企业。公司于2008年在美国纳斯达克上市(HOLI)。
集团在北京、杭州、西安、新加坡等地设立基地,并在全国和世界各地设有服务机构60余处。集团在北京拥有建筑面积8万平米的研发和生产基地,配备3条电子装联生产线,专门用于生产等级(SIL4级)的高铁产品,同时也生产核电仪控产品、DCS和PLC等产品;在杭州拥有建筑面积2.5万平米的成套制造基地;在西安设有大型研究。位于北京的性试验,已获得德国TUV莱茵认证,成为符合标准的性试验基地,可以对电子产品按标准进行严格的电磁兼容、电气、温度、湿度、腐蚀、振动等项目进行试验。
集团的主要业务有高速铁路自动化、核电站自动化、过程自动化、工厂自动化、机器自动化。
在高速铁路自动化领域,和利时是时速350公里高铁和时速250公里动车的列车控制系统主力供应商。郑西线、广深港350公里时速的高速铁路采用和利时的列车控制系统。目前国内在运行的250公里时速的动车组大部分采用了和利时的产品。2012年美国动车实验室也选用和利时自主开发的列车控制系统设备。
在核电站自动化领域,和利时从1997年开始为巴基斯坦300MW核电机组提供自主开发的核电仪控系统以来,业绩已经覆盖到全国在建的所有核电站,成为核电自动化领域在建业绩的厂家。当前正在建设中的红沿河、宁德、阳江等14台1000MW核电机组的仪控系统均采用和利时的产品。和利时已成为世界范围内在建核电站控制系统大的供应商。
在过程自动化领域,和利时在火力发电、石油化工、冶金建材、食品饮料等国计民生行业,成功推广自主开发的DCS控制系统12000套以上,国内外客户数量过7000家,成为中国DCS市场主力供应商,了长期以来我国DCS依赖进口的局面。
在工厂自动化和机器自动化领域,和利时从2003年开始,先后推出自主开发的LM小型PLC、LK大型PLC、MC系列运动控制器,产品通过了CE认证和UL认证。其中LK大型PLC是国内具有自主知识产权的大型PLC,并获得国家四部委联合颁发的“国家新产品”。和利时的PLC和运动控制产品已经广泛应用于地铁、矿井、油田、水处理、机器装备控制行业。
平面光波导PLC是英文Planar Lightwave Circuit的缩写,是平面光波导技术。早在几年前,平面光波导技术就能够使光子在晶圆中传输,并已在WDM系统中广泛应用,主要是阵列波导光栅(AWG)复用/解复用模块。在讯石今年5月河南联谊会上,河南仕佳光子科技有限公司安俊明博士发表了《PLC光无源器件的现状及展望》,针对PLC光无源器件的技术现状作了阐述。
PLC技术应用之一
类是波分复用器-平面光波导器件,其中又分为刻蚀衍射光栅EDG、微环谐振器解复用器、阵列波导光栅AWG和光子晶体解复用器这几大类。
安博士还介绍了AWG的工作原理,其中AWG芯片是主干网、数据、光互连的关键芯片。不同材料系的AWG性能参数也不同,其中二氧化硅波导的折射率差为0.75%,波导尺寸为6 mm´6mm,弯曲半径为5mm,40通道芯片尺寸为45mm´20mm,大的优点是,单使用的损耗低;SOI波导的折射率差为40%,波导尺寸为500nm´200nm,弯曲半径为5mm;16通道芯片尺寸为580mm´170mm,属于集成使用,亚微米加工,因此耦合难度大;InGaAsP/InP波导的尺寸为2.5 m m´0.5mm,弯曲半径为500mm,属于集成使用,损耗稍高,但是价格贵。
硅基二氧化硅AWG需要克服三大难点:均匀的材料生长、相位控制以减少串扰及退火应力补偿,其大通道数高达512通道。
Si纳米线波导AWG的波导尺寸在300nm-500nm,Ghent大学制备出了8通道、400GHz硅纳米线AWG,尺寸仅为200mm´350mm,器件插损仅-1.1dB,串扰为-25dB。
硅纳米线AWG关键工艺在于电子束或深紫外和ICP干法刻蚀,需要克服三大难点:EB光刻密集纳米线波导均匀性、EB写场拼结问题(断开或错位) 及EB光刻、ICP刻蚀侧壁光滑性。
64通道、50GHz InP AWG的禁带为1.05 mm,GaInAsP为0.5 mm厚,上面覆盖1.5 mm厚的InP。深脊型波导宽度为2.55 mm,刻蚀深度为4.5 mm。NTT采用深脊型结构,实现偏振无关,其尺寸为3.6mm´7.0mm;输入/输出波导展宽为4 mm;输出波导间隔为25 mm;阵列波导弯曲半径为500 mm;输入/输出波导弯曲半径为250 mm;插损在14.4-16.4dB间,串扰小于-20dB。
PLC技术应用之二
二类为PLC光分路器,属于光纤到户的光子器件。PLC平面波导型光分路器采用高度集成的制备技术,分路数多达128路,采用光刻、生长和干法刻蚀工艺,在石英衬底上形成掩埋光波导,实现光功率分配,是光分路器生产的技术。目前掌握这种技术的公司,国外有NTT、AiDi、Hitachi Cable、Wooriro、PPI、Fi-Ra,Neon、Corecross、QNIX、Enablence。还有一种采用玻璃基离子交换制备技术,该技术的工艺简单、设备投资少,国外有法国的Teem Photonics公司和以色列ColorChip公司,国内曾有报道浙江大学也掌握了该技术。
目前,PLC光分路器晶圆制备工艺流程分6大步骤共19个工序。依次为:芯区生长-退火、生长硬掩膜、光刻(涂胶、前烘、、显影、后烘)、刻蚀硬掩膜、去光刻胶、刻蚀芯区、去硬掩膜、清洗、生长上包层、退火(重复多次)。
PLC技术应用之三
三种类型为无源与有源功能器件混合集成,有AWG与可调谐衰减器(VOA)集成、AWG与热光开关集成的光上下路器(OADM)这两种集成方式。
二氧化硅平台混合集成有LD倒装和PD侧面贴装两种方式。而封装模块-片上倒装结构属于SOI平台混合集成,有LD倒装和PD表面贴装两道工序,比二氧化硅平台少一个工序。
混合集成工艺-LD倒装焊采用两侧台阶标记的方式,SOI平台混合集成LD倒装
混合集成工艺-PD表面贴装,采用面探测器,NTT以前用波导型探测器。相比较两种探测器,面探测器对准容差大,简化了工艺。
PLC技术应用之四
四种类型为SOI纳米线AWG与Ge探测器单片集成,属于硅基器件混合、单片集成。
PLC技术应用之五
五种类型为InP基单片集成(PIC),其中Infinera公司是PIC集成芯片代表。InP基单片集成Key Innovation PIC是技术上的,属于有源光子的集成,具有空间小、能耗低、性高的特点,能够实现数字带宽,带来部署和管理的灵活性。
目前光子集成实现了传送IP化,单蚀刻,大规模InP光子集成、每芯片100Gb/s WDM系统容量、一对PIC集成了62个分离Tx&Rx
Infinera InP基集成实现了光纤耦合次数减少30倍,空间占用减少3倍,并且功率消耗减少50%,相对而言,优势明显。
目前,国内光通信产业链在系统集成这一环节实力雄厚,其为、中兴、烽火均已跃居世界。但是不可否认的是,我国在上游芯片这一块的技术比较弱,只有低端有源可以自产,大部分低端及芯片都依赖进口。国内在模块这一环节的实力算是比较强,以光迅等为代表,总体而方属于以组装为主的封装大国。众所周知,光通信产业链的基础在于芯片,只有掌握了芯片集成技术,整个产业链才得以很好的延伸下去。
图2 PAC系统架构。与PLC相比,PAC提供多内置的能力,例如USB数据存取、过程控制以及多个以太网和串行通讯端口。